Dit wordt mogelijk gemaakt door de ontwikkeling van nieuwe fotolithografische technieken die de verdere verkleining van microchips stimuleren, waardoor halfgeleiders goedkoper worden en elektronische apparaten krachtiger. De printresoluties met de nieuwste EUV-technologieën zijn zo klein als 8 nm, wat vergelijkbaar is met atomaire niveaus.
Om dit mogelijk te maken is een extreem nauwkeurige controle van de scanner nodig. Elk deeltje, elke trilling, elke rimpel kan het fotolithografische proces verstoren. Daarom is het binnenste van de scanner een ecosysteem op zich - opgesloten in de cleanroom en geïsoleerd van de invloeden van de buitenwereld.
De halfgeleiderindustrie is grotendeels afhankelijk van op fluor gebaseerde materialen, de zogenaamde PFAS. Ze zijn alomtegenwoordig in de machine vanwege hun unieke combinatie van eigenschappen. Alle materialen die gebruikt worden in een trillingsdempende regeling zijn momenteel gebaseerd op PFAS, wat betekent dat de productie en verwijdering ervan verbonden zijn met milieu- en gezondheidsrisico's. Het gebruik van deze stoffen zal beperkt worden door de aankomende PFAS-wetgeving. Dit project is gericht op de ontwikkeling van beter presterende en veiligere materialen voor trillingsdemping.