Arco Krijgsman

Arco Krijgsman behaalde in 2001 zijn Master in Technische Natuurkunde aan de Universiteit Twente.

Sindsdien is hij in verschillende rollen betrokken geweest bij de ontwikkeling van optische hightech systemen. Vanaf 2002 als onderdeel van een start-up bedrijf dat werkte aan een nieuw type excimerlaser.

Vanaf 2010 werkt hij voor ASML, waar hij leiding heeft gegeven aan verschillende teams op belangrijke gebieden van de ontwikkeling van het EUV-lithografiesysteem. Momenteel is hij hoofd publiek-private samenwerkingen.

Naast zijn rol bij ASML is Arco lid van de VNO-NCW expertcommissie Technologie & Innovatie en lid van het EU publieke roadmap kernteam voor elektronische componenten en systemen, de ECS-SRIA.