Kwantificatie van VUV- en DUV-emissie door EUV‑plasma
TNO en ASML werken in dit project samen aan het verbeteren van de duurzaamheid en prestaties van apparatuur die gebruikmaakt van EUV-technologie. Tijdens EUV-belichting vormt de interactie tussen EUV-straling en gas bij lage druk een EUV geïnduceerd plasma dat breedbandig straling uitzendt. De hoeveelheid uitgezonden straling neemt toe met stijgend bronvermogen van de lithografiemachines. De invloed van deze straling op oppervlakte processen van de aan EUV blootgestelde materialen is nog onvoldoende gekwantificeerd. In dit eerste deel van het project zullen we het ioniserende deel van de straling vanuit het plasma op basis van theoretische modellen en nieuwe experimenten bepalen.
Impact van VUV- en DUV-emissie op oppervlakteprocessen
Het project richt zich ook op het beter begrijpen van de rol van ioniserende straling op het gedrag van kritieke oppervlakken tijdens blootstelling aan EUV. Bestaande reactiemodellen ontwikkeld voor EUV-straling breiden we uit naar VUV- en DUV-golflengtes, en we vergelijken de VUV/DUV geïnduceerde effecten met die van de primaire EUV-bundel. De analyse omvat zowel de directe fotoninteractie als effecten van secundaire elektronen die via het foto-elektrisch effect ontstaan. De verwachte inzichten dragen bij aan verlenging van de levensduur van apparatuur, verhoging van productiviteit en reductie van contaminatierisico’s, wat uiteindelijk onderhoudskosten verlaagt en de milieubelasting vermindert.
Dynamische oppervlaktebescherming voor EUV‑belichte oppervlakken
De combinatie van sterk ioniserende straling en kleine hoeveelheden water leidt tot een risico op oppervlaktereacties zoals oxidatie, die de levensduur van componenten kunnen beperken. De kern van deze werkpakketbenadering is het ontwikkelen van een dynamische beschermlaag: een beschermende coating die tijdens gebruik steeds wordt geërodeerd door plasma en fotoninteracties, maar tegelijkertijd continu of cyclisch ook weer wordt hersteld. Deze dynamische barrière moet kritieke oppervlakken beschermen, niet alleen tegen oxidatie maar ook tegen vervuiling. In dit laatste deel zoeken we naar materialen die zo’n beschermlaag mogelijk maken. De in situ groei- en regeneratie zullen we experimenteel testen in EUV belichtingstests.