Dit project van ASML en de Universiteit Twente heeft als doel technologie te ontwikkelen voor de volgende generatie EUV (Extreme Ultraviolet) lithografiemachines, essentieel voor het produceren van geavanceerde microchips die apparaten zoals smartphones en AI-systemen aandrijven.
Om hogere productiesnelheden te halen, ontwikkelt ASML bronnen met hoger vermogen. Hierdoor worden optische componenten blootgesteld aan hoge doses plasma. Het testen van optische componenten en voorspellen van de levensduur van dunne film coatings vereist een bron met hogere flux waterstofionen dan beschikbaar met huidige technologie.
Deze bron willen wij ontwikkelen op basis van plasma-ontladingen zoals die bij magnetron sputteren gebruikt worden. Op deze manier kunnen samples belicht worden met hoge flux (> 1 x 1016 ionen/(cm2s)) waterstofionen met energie < 10 eV. Deze innovatie maakt krachtigere, efficiëntere chips mogelijk en ondersteunt tegelijkertijd het Nederlandse leiderschap in materiaalkunde en precisie-engineering.