In de halfgeleider-industrie is het essentieel om meetmethoden te hebben voor exacte positionering van wafers voorafgaand aan de bewerking ervan. Bij voorkeur worden hier optische methoden gebruikt vanwege de snelheid en niet-invasieve metingen. Maar in sommige gevallen is het noodzakelijk om door ondoorzichtige materialen heen te kunnen meten. In dit project ontwikkelen we een optisch concept om zulke metingen mogelijk te maken.
Optische meetmethoden voor ondoorzichtige materialen
Het vermogen om op betrouwbare wijze complexe 3D-geïntegreerde structuren te vervaardigen, hangt in hoge mate af van nauwkeurige metrologie-methodes die het fabricageproces monitoren. Dit onderzoeksvoorstel heeft als doel zulke methodes te ontwikkelen op basis van laser-aangedreven foto-akoestiek. In de halfgeleidermetrologie worden bij voorkeur optische methoden gebruikt, maar 3D structuren bevatten vaak optisch ondoorzichtige materialen. Bij foto-akoestiek wordt een hoogfrequente geluidspuls opgewekt door snelle, lasergeïnduceerde lokale verwarming, die vervolgens wel kan voortbewegen naar de diepere lagen waar de metrologie-markers zich bevinden. De terugkerende geluidspuls wordt optisch gedetecteerd, en het signaal wordt verwerkt.