ASML verlegt grenzen in hun nieuwste generatie EUV-scanners door de hoeveelheid EUV te verhogen en daarmee de kosten van de scanner te verlagen. Een van de gekozen oplossingen is om de source frequency te verhogen. Deze source frequentie verhoging resulteert ook in het gebruik van meer tin. Met als resultaat dat er meer tin bij de spiegels van de scanner kan komen, waar de tin verminderde reflectie van de spiegels kan veroorzaken en een bijdrage levert tot deeltjesvervuiling.

Oplossingsrichting

ASML zoekt een oplossing waarbij een dynamische barrière tussen de bron en de optiek wordt aangebracht. Deze barrière bevindt zich in een voor materialen zeer zwaar belaste omgeving doordat er een gecombineerd effect is van hoge plasma waardes, hoge temperaturen en grote dynamische krachten.

Huidige technologische status

TNO beschikt over diverse offline test setups waarmee de invloed van waterstof radicalen, waterstof plasma en EUV op materiaal getest kan worden. Daarnaast zijn er diverse test faciliteiten beschikbaar om de mechanische eigenschappen van materialen op hoge temperaturen en hoge dynamische belasting te testen. Er zijn echter geen testfaciliteiten beschikbaar waar materialen gelijktijdig en onder waterstofplasma, en onder hoge temperaturen en onder mechanische belasting kunnen worden getest.

Uitdaging

TNO heeft ervaring met het testen van materialen onder variërende waterstofplasma condities. De uitbreiding van deze testfaciliteiten naar hoge temperaturen en dynamische belasting is een uitdaging die TNO graag aangaat.