Onze moderne samenleving wordt steeds afhankelijker van chips, die een breed scala aan devices aanwenden gebaseerd op verschillende halfgeleidertechnologieën. Om aan deze vraag te voldoen, zijn processen op atomaire schaal nodig, wat innovaties in zowel hardware als fabricagetechnieken vereist.
Nieuwe plasmabronnen voor processing op de atomaire schaal
Een cruciaal gebied van vooruitgang is de ontwikkeling van nieuwe plasmabronnen voor processing op de atomaire schaal, waaronder methoden zoals atoomlaagdepositie en -etsen vallen. In dit project zullen we geavanceerde experimenten uitvoeren op een nieuwe plasma-bron om plasmamodellen te valideren die het gedrag van de plasma-bron beschrijven, een essentiële stap voor verdere controle en verbeterde mogelijkheden in de productie van halfgeleiderdevices.