Lasergeproduceerde tinplasma’s produceren extreem ultraviolette (EUV) straling bij een golflengte van 13,5 nanometer in moderne EUV-lithografie. De industrie ontwikkelt steeds krachtigere en efficiëntere EUV-bronnen. Nieuwe plasma-’recepten’ beïnvloeden de plasma-emissie, die begrepen moet worden.
We stellen voor om een succesvolle ARCNL/UTsamenwerking voort te zetten om nieuwe, compacte beeldspectroscopiemogelijkheden te ontwikkelen en te gebruiken, voortbouwend op onze uitvinding om spectraal opgelost 1D-beeld te creëren over een breed golflengtebereik, evenals 2D-beelden in een smal golflengtegebied met hulp van multilaagspiegels. De nieuwe techniek wordt ingezet om veelbelovende plasmabronnen voor EUV-straling te optimaliseren.