Het ontwikkelen en maken van gelaagde structuren met diktes in het nanometer- en subnanometerbereik is van fundamenteel belang voor elektronica, micromechanica en optica. In het bijzonder worden multilaags röntgenspiegels gebruikt in materiaalanalyse, ruimteonderzoek, synchrotrons, vrije-elektronenlasers, maar ook in de geneeskunde en biologie. Ook de nieuwste generatie EUV-lithografie is volledig gebaseerd op 13,5 nm multilaagspiegels.
In dit project zullen we ons concentreren op de synthese van multilagen met een ultrakorte periode voor het zogenaamde ‘water window’ (2,3-4,4 nm) en kortere golflengten, waarbij het beheersen van de lagen op atomair niveau nog steeds een uitdaging is. Er zullen diffusiebarrières met een dikte van één enkele laag atomen worden toegepast, en de deeltjes-energie zal worden afgestemd op de individuele stadia van de laaggroei om interacties op grensvlakken te optimaliseren om zo maximale reflectiviteit te halen - OPTIMAX.