Dit onderzoeksproject gaat over de instrumentatie van EUV-lithografie. Meer specifiek gaat het over het plasma dat bestaat aan weerszijden van een 6 mm groot gat tussen twee vacuümkamers: de bronkamer, waar de grote EUV-bron zich bevindt, en de optiek-kamer, waar alle verdere optiek, het masker en de siliciumplak zich bevinden.

Dit 6 mm grote gat fungeert als een punt van sonische insnoering: precies in het gat gaat de stromingssnelheid van het gas (plasma) van subsoon naar supersoon. Het gebied vlak vóór, vlak ná, en in de opening zal worden bestudeerd met zowel numerieke modellen als experimenten. Een nieuw type reiniging, ook gebaseerd op expanderende plasma’s, zal worden onderzocht.