Optimaliseren van motion controllers voor metrologieapparatuur
Het project richt zich op het ontwikkelen van geavanceerde besturingsmethodologieën voor het optimaliseren van motion controllers in meetapparatuur. Dit omvat fundamenteel onderzoek naar op gegevens gebaseerde optimalisatietechnieken zoals extremum seeking control en perturb-and-observe methoden. Het doel is om de prestaties van positioneerstages te verbeteren, de settlingtijd te verminderen en de doorvoer te verbeteren. Dit onderzoek zal bijdragen aan de ontwikkeling van efficiëntere en nauwkeurigere metrologieapparatuur, wat ten goede komt aan de halfgeleiderproductie-industrie.
Activiteiten voor onderzoek en ontwikkeling
Het project is verdeeld in twee hoofdwerkpakketten, elk met een sterke fundamentele onderzoekscomponent. Het eerste werkpakket richt zich op het optimaliseren van point-to-point bewegingen van gekoppelde positioneringseenheden. Het tweede werkpakket richt zich op de optimalisatie van rasterscanbeweging van de scankop. Beide pakketten zullen experimentele demonstraties bevatten om de onderzoeksresultaten te valideren op opstellingen op industriële schaal.
Bredere impact en beoogde resultaten
Dit project draagt bij aan het Strategisch Programma Halfgeleiderproductieapparatuur en de Nationale Technologie Strategie. Het versterkt het leiderschap van Nederland op het gebied van sleuteltechnologieën zoals mechatronica, micro-elektronica en AI. Het project moet een datagestuurd besturingsraamwerk opleveren met verbeterde systeemnauwkeurigheid en verwerkingscapaciteit, waarvan Nederlandse OEM's en de bredere halfgeleiderindustrie kunnen profiteren. Daarnaast zal het de onderzoekspositie van Nederland op het gebied van halfgeleiders versterken, waardoor de wereldwijde reputatie van Nederland op het gebied van innovatie en uitmuntendheid wordt versterkt.