Dit project van ASML en de Universiteit Twente heeft als doel technologie te ontwikkelen voor de volgende generatie EUV (Extreme Ultraviolet) lithografiemachines, essentieel voor het produceren van geavanceerde microchips die apparaten zoals smartphones en AI-systemen aandrijven. Om nog hogere precisie te bereiken, werken we aan 'Hyper-NA' EUV-technologie, die uiterst nauwkeurige uitlijning vereist.
Impact
Een belangrijke oplossing is het gebruik van speciale multilaags materialen die door te verhitten dikker of dunner gemaakt kunnen worden om zo een wafer exact in focus te houden. Deze innovatie maakt krachtigere, efficiëntere chips mogelijk en ondersteunt tegelijkertijd het Nederlandse leiderschap in materiaalkunde en precisie-engineering.