Vrijstaande membranen van koolstof- en boornitride-nanobuisjes (NB) zijn veelbelovend om te gebruiken als extreem-ultraviolet (EUV) pellicles in de volgende generatie EUV-lithografiemachines. Deze pellicles (vrijstaande membranen) kunnen zo gemaakt worden dat ze extreem dun, breukbestendig en bestand tegen schadelijke invloeden van extreme omgevingen (zoals hoge temperaturen en vrije waterstof) zijn.
Impact
De mechanische eigenschappen en chemische stabiliteit/inertheid van NB-pellicles zijn echter nog onvoldoende begrepen. Ons project richt zich op: 1) het ontwikkelen van een numeriek model dat deze mechanische eigenschappen betrouwbaar kan voorspellen 2) het ontwikkelen van strategieën om de levensduur van het pellicle te verlengen door de chemische inertheid te verbeteren.