Karakterisering van nano-structuren
De optimalisatie van het productieproces van dergelijke apparaten vereist een efficiënte en nauwkeurige metrologie, die in staat is alle essentiële parameters efficiënt te karakteriseren. Er zijn meerdere meettechnieken die individuele parameters kunnen analyseren, maar een alomvattende karakterisering van nano-structuren blijft een uitdaging.
Efficiënte metrologie voor gelaagde nano-structuren
De huidige methodes die gebruikt worden bij universiteiten of onderzoeksinstituten zijn effectief, maar vaak zeer complex en daardoor beperkt toepasbaar in een industriële omgevingen. MOXY streeft ernaar de wetenschappelijke basis aan te tonen voor een efficiënte metrologie voor gelaagde nano-structuren, en als zodanig cruciale ontwikkelingen voor bijvoorbeeld de semiconductor industrie ondersteunen.
Meerdere datasets binnen één model
We zullen een hybride metrologie methode verkennen, die meerdere datasets combineert binnen één enkel mathematisch model. Met MOXY willen wij verschillende röntgentechnieken integreren, waaronder röntgenreflectiviteit, staande golven en röntgenverstrooiing, als een ‘one-shot’ complete structurele analyse van dunne lagen in nano-structuren.